高純度薬品とクリーンなガラス容器でRCA洗浄を行うと、ウェハーは水に浸かっている間は非常にクリーンな表面を持つ。表面は容易に有機物や水中に浮遊するパーティクルによって再汚染するため、リンスと乾燥段階は正しく行わなければならない。リンスと乾燥を効果的に行うために様々な手法がとられる[2]。
付加的な段階

ex-situな洗浄プロセスにおける第１段階では、トリクロロエチレン、アセトン、メタノールと超音波を使ってウェハーの油分を取り除く[5]。
関連項目

ウェハー

SOI

化学機械研磨

ピラニア溶液

参考文献^ a b c ⇒RCA Clean, materials at Colorado School of Mines
^ a b c d e f g Kern, W. (1990). “The Evolution of Silicon Wafer Cleaning Technology”. Journal of the Electrochemical Society 137 (6): 1887?1892. doi:10.1149/1.2086825. 
^ W. Kern and D. A. Puotinen: RCA Rev. 31 (1970) 187.
^ Itano, M.; Kern, F. W.; Miyashita, M.; Ohmi, T. (1993). “Particle removal from silicon wafer surface in wet cleaning process”. IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 6 (3): 258. doi:10.1109/66.238174. 
^ Rudder, Ronald; Thomas, Raymond; Nemanich, Robert (1993). “Chapter 8: Remote Plasma Processing for Silicon Wafer Cleaning”. In Kern, Werner. Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology. Noyes Publications. pp. 356?357. .mw-parser-output cite.citation{font-style:inherit;word-wrap:break-word}.mw-parser-output .citation q{quotes:"\"""\"""'""'"}.mw-parser-output .citation.cs-ja1 q,.mw-parser-output .citation.cs-ja2 q{quotes:"「""」""『""』"}.mw-parser-output .citation:target{background-color:rgba(0,127,255,0.133)}.mw-parser-output .id-lock-free a,.mw-parser-output .citation .cs1-lock-free a{background:url("//upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/6/65/Lock-green.svg")right 0.1em center/9px no-repeat}.mw-parser-output .id-lock-limited a,.mw-parser-output .id-lock-registration a,.mw-parser-output .citation .cs1-lock-limited a,.mw-parser-output .citation .cs1-lock-registration a{background:url("//upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/d/d6/Lock-gray-alt-2.svg")right 0.1em center/9px no-repeat}.mw-parser-output .id-lock-subscription a,.mw-parser-output .citation .cs1-lock-subscription a{background:url("//upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/a/aa/Lock-red-alt-2.svg")right 0.1em center/9px no-repeat}.mw-parser-output .cs1-ws-icon a{background:url("//upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/4/4c/Wikisource-logo.svg")right 0.1em center/12px no-repeat}.mw-parser-output .cs1-code{color:inherit;background:inherit;border:none;padding:inherit}.mw-parser-output .cs1-hidden-error{display:none;color:#d33}.mw-parser-output .cs1-visible-error{color:#d33}.mw-parser-output .cs1-maint{display:none;color:#3a3;margin-left:0.3em}.mw-parser-output .cs1-format{font-size:95%}.mw-parser-output .cs1-kern-left{padding-left:0.2em}.mw-parser-output .cs1-kern-right{padding-right:0.2em}.mw-parser-output .citation .mw-selflink{font-weight:inherit}ISBN 0-8155-1331-3 

外部リンク

⇒RCA Clean, School of Electrical and Computer Engineering,Georgia Institute of Technology