NTTイノベーティブデバイス株式会社
NTT Innovative Devices Corporation
種類株式会社
市場情報非上場
本社所在地 日本
〒221-0031
神奈川県横浜市神奈川区新浦島町1-1-32
アクアリアタワー横浜
設立1982年6月15日
業種電気機器
法人番号3020001061862
NTTイノベーティブデバイス株式会社(NTT Innovative Devices Corporation)は、神奈川県横浜市にあるNTTグループの企業である。 ブロードバンドネットワーク(ネットワーク用LSI・IC等)、フォトニクス(光通信用デバイス)、セキュリティ(スマートフォン向けセキュリティソフト)・セイフティ、デジタル映像(圧縮LSIモジュール等)に関する開発・製造事業を行っており、多彩な事業領域を持つ会社である。 2023年8月1日、NTTイノベーティブデバイス株式会社と合併した。合併後はNTTエレクトロニクスを存続会社として、NTTイノベーティブデバイス株式会社に商号変更された。 かつてはNTTアドバンステクノロジ(NTT-AT)、現NTTテクノクロスであるNTTソフトウェアおよびNTTアイティ(NTT-IT)と共にNTTグループ内で先端技術開発事業を受け持ち、NTTの各研究所とのつながりが深いため、研究所系4社と呼ばれていた。
概要
沿革
1982年、日本電子技術株式会社設立
1985年、NTTエレクトロニクステクノロジー株式会社に社名変更
1988年、資本金3億8,050万円に増資
1989年、品質管理部設置、営業本部設置、横浜事業所開設
1990年、厚木事業所厚木設計センタ開設
1991年、資本金18億8,050万円に増資
1992年、事業部制に移行、業務本部設置、資本金26億3,050万円に増資
1993年、品質保証本部設置
1994年、化合物半導体事業部ISO 9001認証取得
1995年、茨城分室を茨城事業所に名称変更、光デバイス事業部設置
1996年、LSI事業本部、光半導体デバイス部ISO 9001認証取得
1997年、NTTエレクトロニクス株式会社に社名変更、本社・営業本部、東京都渋谷区に移転、海老名事業所開設、武蔵野事業所開設、光ハイブリッドデバイス部ISO 9001認証取得
1998年、茨城事業所移転、超高速エレクトロニクス事業本部、フォトニクス事業本部設置、システム事業本部ISO 9001認証取得
1999年、米国駐在事業所準備室設置、西日本支店開設、茨城事業所工場増設、茨城事業所ISO 14000認証取得
2000年、NEL America,Inc.設立、NELテクノサポート株式会社設立、全社ISO 14000認証取得
2001年、茨城新工場竣工、資本金87億750万円に増資、技術開発本部設置、エレクトロニクス事業統括本部設置、南町田事業所開設
2005年、資本金33億2964万7680円に減資
2005年、人体の接触で通信を行う「レッドタクトン」を発表[1]
2006年、北京事務所開設
2007年、資本金65億7678万7680円に増資
2009年、ミラノ事務所開設 、本社を神奈川県横浜市に移転
2010年、深?事務所を開設
2011年、NTT Electronics Hong Kong Limited 設立
2012年、深?恩梯梯電子有限公司 設立
2012年、株式会社産業革新機構、株式会社フジクラおよびNTT エレクトロニクス株式会社とともに、ニスティカ社への出資を決定[2]
2013年、NTTエレクトロニクスとブロードコム社、次世代コヒーレントDSPでビジネス提携[3]
2015年、NTT Electronics America, Inc. West Coast Office 開設
2015年、NTT Electronics Europe S.r.l. 設立
2017年、NEL America, Inc.をNTT Electronics America, Inc.に社名を変更
2017年、NTTエレクトロニクスオプテック株式会社 設立
2018年、NELクリスタル株式会社をNTTエレクトロニクスコプロ株式会社に社名を変更
2021年、富士通アドバンストテクノロジ株式会社の66.6%の株式を富士通から取得し、NTTエレクトロニクスクロステクノロジ株式会社(現・NTTデバイスクロステクノロジ株式会社)に社名を変更
2023年、NTTイノベーティブデバイス株式会社と合併。合併後はNTTエレクトロニクスを存続会社として、NTTイノベーティブデバイス株式会社に商号変更。
事業所
横浜事業所
厚木事業所
厚木センタ
茨城事業所