ペルオキソ一硫酸
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半導体回路製造過程で、レジスト除去剤としての用途が検討されている[3]

過硫酸の塩は、酸素系の漂白剤、洗浄剤として用いられる。

過硫酸水素カリウムと硫酸水素カリウム、硫酸カリウムから成る複塩 (2KHSO5?KHSO4?K2SO4) は「OXONE(オキソン)」という商標名で市販され、有機合成などで酸化剤として用いられる。
関連項目

亜硫酸

硫酸

ペルオキソ二硫酸

ピラニア溶液

参考文献^ コットン、ウイルキンソン、『無機化学』、原書4版、培風館
^ 例: Wang, Y.; Zhu, S. Tetrahedron Lett. 2001, 42, 5741-5744. DOI: 10.1016/S0040-4039(01)01106-6
^東芝など,硫酸の使用量を70%削減するレジスト除去技術を開発 - 日経BPnet










水素の化合物
二元化合物

CH4

SiH4

GeH4

SnH4

PbH4

HAt

HBr

HCl

HF

HI

HN3

H2O

H2O2

H2O3

H2S

H2S2

H2Se

H2Te

NH3

PH3

AsH3

SbH3

BiH3

多元化合物

H[AuCl4]

HBF4

HCN

H2CS3

H[CuCl2]

H2[CuCl4]

HNC

H2[PtCl4]

H2[PtCl6]

HSCN

H2SiF6

HSNC

オキソ酸

H3AsO4

H5As3O10

HBiO3

HBO2

H3BO3

HBrO

HBrO2

HBrO3

HBrO4

HClO

HClO2

HClO3

HClO4

HClO5

H2CrO4

H2Cr2O7

H2CO3

H2CO4

HFO

HIO


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