ドライエッチング
■オプション
□記事を表示
□Wikipediaで表示
□ノートへ移動
□Googleで表示
↑画像参照
□コピペモード
□本文ページのURL
■[ドライエッチング]を検索
□Wikipedia内
□Google携帯ｻｲﾄ
□Google一般ｻｲﾄ
□Yahoo!ﾓﾊﾞｲﾙ
□Uncyclopedia
□2chスレッド
□ハッシュ
4丁目6736番地
■ｷｰﾜｰﾄﾞﾘﾝｸ一覧
英語
気体
イオン
ラジカル
エッチング
化学的な反応
生成物
液体
ウエットエッチング
衝突
物理的な変化
プラズマ
イオン化
反応性イオンエッチング
シリコン
フッ素
四フッ化ケイ素
半導体
3M
フロリナート
PFAS
[1]
[2]
特徴
フォトレジスト
微細加工
種類
反応性イオンエッチング
主なエッチングガス
反応性イオンエッチング
六フッ化硫黄
四フッ化炭素
関連項目
ウエットエッチング
反応性イオンエッチング
^
^
元文表示記事の検索おまかせリスト▼オプションを表示暇つぶしWikipedia
Size:5044 Bytes
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』
担当:undef