自己整合（じこせいごう、英: Self-alignment）とは、例えば半導体等の集積回路作製プロセスにおいて、既に形成されたパターンを次のプロセスのマスクとして利用し、マスクの位置合わせ無しで次のプロセスを進めることである[1]。また、最初のパターンあるいは形状が最終的な素子のパターンあるいは形状を決定する場合も自己整合と呼ぶ。自己組織化 (Self-assembly) とは異なる。
関連項目

薄膜トランジスタ

自己集合

自己組織化

自己組織化リソグラフィ

有機体論

創発

階層構造

複雑適応系

ネゲントロピー

散逸構造生成

イリヤ・プリゴジン

ナノマシン、ナノテクノロジー

NEMS

脚注・参照^ 井上聡; 下田達也 (2007). ⇒“フラットパネルディスプレイの製造技術 マイクロ液体プロセスを用いた電子デバイス”. 精密工学会誌 69 (7): 935-938. ⇒http://jlc.jst.go.jp/DN/JALC/00229802492.