四フッ化ケイ素


IUPAC名

Silicon tetrafluoride
別称四フッ化シラン
フッ化ケイ素
識別情報
CAS登録番号7783-61-1
RTECS番号VW2327000
SMILES

FSi(F)(F)F

特性
化学式SiF4
モル質量104.08 g/mol
外観無色気体
（湿度が高いと発煙）
密度1.66 g/cm3（-95℃、固体）
融点

-86℃
沸点

-95.5℃で昇華（1 atm）
水への溶解度加水分解
粘度? cP（?℃）
構造
分子の形正四面体
双極子モーメント0 D
危険性
主な危険性有毒気体、腐食性
NFPA 704032
RフレーズR14 R26/27/28 R31 R34
SフレーズS23 S26 S36/37/39 S45
関連する物質
関連物質四塩化ケイ素 SiCl4
シラン SiH4
ヘキサフルオロケイ酸 H2SiF6
特記なき場合、データは常温 (25 °C)・常圧 (100 kPa) におけるものである。

四フッ化ケイ素（しフッかケイそ）は分子式がSiF4で表される化合物である。分子の形は正四面体であり、沸点と融点は4℃しか離れていない。1812年にデービー (John Davy)によって初めて合成された[1]。
生成

SiF4はリン酸塩肥料の副生成物である。また、気体のフッ化水素HFとケイ酸塩との反応からも得られる。実験室ではBaSiF6固体を300℃以上に加熱して揮発性のSiF4とBaF2とに分解することで得られる。必要なBaSiF6はヘキサフルオロケイ酸H2SiF6の水溶液と塩化バリウムとから得られる[2]。相当する量のGeF4を用いても同様にして得られる（ただし熱処理には700℃を要する）[3]。
利用

揮発性が高く、マイクロ電子工学と有機合成化学においてわずかな利用例があるだけである[4]。
産出

火山ガスは大量の四フッ化ケイ素を含み、産出量は1日あたり数トンに及ぶ[5]。四フッ化ケイ素は部分的に加水分解されヘキサフルオロケイ酸を形成する。
参考文献^ John Davy (1812). ⇒“An Account of Some Experiments on Different Combinations of Fluoric Acid”. Philosophical Transactions of the Royal Society of London 102: 352-369. ⇒http://links.jstor.org/sici?sici=0261-0523%281812%29102%3C352%3AAAOSEO%3E2.0.CO%3B2-4. 
^ Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. “Silicon Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 145-6, 1953.
^ Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. "Germanium Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 147-8, 1953.
^ Shimizu, M. "Silicon(IV) Fluoride" Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2001 John Wiley & Sons. DOI: 10.1002/047084289X.rs011
^ T. Mori, M. Sato, Y. Shimoike, K. Notsu (2002). ⇒“High SiF4/HF ratio detected in Satsuma-Iwojima volcano's plume by remote FT-IR observation”. Earth Planets Space 54: 249-256. ⇒http://www.terrapub.co.jp/journals/EPS/pdf/2002/5403/54030249.pdf. 

表

話

編

歴
ケイ素の化合物
二元化合物

SiBr2

四臭化ケイ素（中国語: 四?化硅）

SiC

SiCl2

SiCl4

SiF2

SiF4

SiH4

Si2H6

SiI4

Si(N3)4

Si3N4

SiO