希ガス元素
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化学結合を備えた最初の希ガス化合物は、1962年5月、カナダブリティッシュコロンビア大学のネイル・バートレットとD・H・ローマンによって合成されたヘキサフルオロ白金酸キセノン (XePtF6) である[1]。酸素分子 O2 を酸化するヘキサフルオロ白金酸の反応から類推し、O2 (12.2eV) とほぼ同じイオン化エネルギーを持つキセノン (12.13eV) を酸化できるのではと考えたことが成功の鍵であった。8月には XeF4 が、同年末は XeF2 と XeF6 も合成された。

1963年には、放電を用いてクリプトンの化合物 (KrF2) が合成され[2] 、また同年にラドンの化合物も合成された。

ハロゲン化物としては、キセノンあるいはクリプトンのフッ化物が知られている。2000年にはアルゴンの安定な化合物、アルゴンフッ素水素化物(HArF) も報告された[3]

酸化物としては、六フッ化キセノン XeF6 または四フッ化キセノン XeF4 がと反応した三酸化キセノン XeO3 が知られる。


参考文献

Frenking, G. Nature 2000, 406, 813. DOI: ⇒10.1038/35022678


出典^ Bartlett, N. Proc. Chem. Soc. 1962, 218.
^ MacKenzie, D. R. Science 1963, 141, 1171. DOI: ⇒10.1126/science.141.3586.1171
^ Khriachtchev, L.; Pettersson, M.; Runeberg, N.; Lundell, J.; Rasanen, M. Nature 2000, 406, 874. DOI: ⇒10.1038/35022551


関連項目

希ガスハイドライド分子

カテゴリ: 元素群

更新日時:2008年10月5日(日)05:27
取得日時:2008/10/11 19:11


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出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)
担当:Mamenoki