鏡像体過剰率（きょうぞうたいかじょうりつ、enantiomeric excess）とはキラルな化合物の光学純度を表す言葉で ee と略される。ee は多い方の物質量から少ない方の物質量を引き、全体の物質量で割った値で表される（多い方の比から少ない方の比を引いても良い）。ラセミ体は2つのエナンチオマーの1:1の混合物であるから、 ee は0%である。ee はキラルHPLCや、キラルシフト試薬を添加したサンプルの NMR などから決定される。

ee は不斉合成の分野でよく用いられ、例えばプロキラルな化合物からキラルな化合物を合成した場合、生成物の光学純度の高さは ee によって表わされる。

ジアステレオマーの場合はジアステレオマー過剰率 (diastereomeric exess, de) を用いる。

表・話・編・歴不斉合成

用語光学異性体 - キラリティー - キラル中心 - 鏡像異性体 - ジアステレオマー - メソ化合物 - 面不斉 - 不斉触媒 - 軸不斉 - ホモキラリティー - ラセミ体

分析旋光 - 変旋光 - 鏡像体過剰率

光学分割結晶化 - 速度論的光学分割

反応不斉増幅 - ラセミ化反応

カテゴリ: 立体化学

更新日時:2008年3月15日(土)08:38
取得日時:2008/11/14 16:32