半導体工学
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半導体工学(はんどうたいこうがく)は、半導体素子の設計・製造、寿命などの性能評価、半導体を利用した計測などを取り扱う工学である。下記のように多様な技術が関係する。
目次

1 設計

2 製造技術

3 半導体の物性・特性の測定手段

4 製品の性能評価

5 関連項目

6 外部リンク

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設計

回路設計

CADEDA


プロセス・デバイス構造の設計(シミュレーション)

TCAD (プロセスシミュレーション、デバイスシミュレーション)


製造用機器の設計


製造技術

チョクラルスキー法

ゾーンメルト法

拡散(熱拡散)・酸化(熱酸化)

蒸着

スパッタリング

スピンコート

CVD(化学気相成長法)

PVD(物理気相成長法)

MBE(分子線エピタキシー法)

エピタキシャル成長

イオン注入

フォトリソグラフィ(パターニング)

エッチング

FIB(Focused Ion Beam)

CMP(化学機械研磨)

メタライズ(配線)

多層配線


製造時の欠陥検出

テストパターン

工程管理


ダイシング

パッケージング(組立)


半導体の物性・特性の測定手段

半導体の示す様々な物性は、研究開発や製造時の特性評価などにも利用されるほか、多くは半導体の用途にも深く関係する。

電気伝導度

ホール効果

PN接合ショットキー接合の特性:

電流-電圧特性、空乏層容量、ゼーベック効果ペルティエ効果光起電力効果エレクトロルミネセンス


組成や不純物:EDX、EPMASIMSICP

構造:光学顕微鏡XRDRBSラマン効果SEMTEMAFMXRFSPM、SCM

バンド構造など:光電効果光電子分光、逆光電子分光、DLTSフォトルミネセンス


製品の性能評価

電気的特性

DC特性

AC特性


寿命

信頼性


関連項目

エレクトロニクス用語一覧

・編・歴半導体カテゴリ
分類P型半導体 - N型半導体 - 真性半導体 - 不純物半導体
種類窒化物半導体 - 酸化物半導体 - アモルファス半導体 - 磁性半導体
半導体素子集積回路 - マイクロプロセッサ - 半導体メモリ - TTL論理素子
バンド理論バンド構造 - バンド計算 - 第一原理バンド計算 - 伝導帯 - 価電子帯 - 禁制帯 - フェルミ準位 - 不純物準位 - 電子 - 正孔 - ドナー - アクセプタ - 物性物理学


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出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)
担当:Smilegreen