スパッタリングは、
絵画などで使われる手法のこと。
薄膜製造の代表的な方法のこと。
両方とも本稿で記述する。
絵具を細かな目を持つ網に塗り、それをブラシでこする（あるいは目の細かな網を、絵具をつけたブラシでこする）ことで、小さな粒子として絵具を飛ばす手法。エアブラシよりも荒い粒が得られる。
金属成膜技術スパッタによる金の蒸着
真空チャンバー内に薄膜としてつけたい金属をターゲットとして設置し、高電圧をかけてイオン化させた希ガス元素（普通はアルゴンを用いる）や窒素（普通は空気由来）を衝突させる。するとターゲット表面の原子がはじき飛ばされ、基板に到達して製膜することが出来る。
原理も単純であり「スパッタ装置」として各種あることから、様々な技術分野で広く使われている。
最近では、高品質の薄膜が要求される半導体・液晶・プラズマディスプレイ・光ディスク用の薄膜を製造する手法として、近年着目されている。
また、真空チャンバー内にガスを導入し、これをはじき飛ばされた金属と反応させることによって化合物を製膜する反応性スパッタ法も新たな合金や人工格子の作製技術として注目されている。
2極・3極・4極・RF・マグネトロン・対向ターゲット・ミラートロン・ECR・イオンビーム・デュアルイオンビームなどの方式がある。 カテゴリ: 絵画技術 | 加工 | 半導体製造
更新日時:2008年6月24日(火)13:43
取得日時:2008/09/07 13:42
